Huawei исследует инновационный метод для создания 5нм чипов без оборудования ASML

Компания Huawei Technologies Co. совместно с партнером в Китае подала патент на новый подход к производству современных полупроводников. Эта технология, получившая название self-aligned quadruple patterning (SAQP), потенциально может повысить возможности Китая по производству микросхем, несмотря на экспортные ограничения, наложенные США.

Суть технологии заключается в том, что она позволяет снизить зависимость от высокотехнологичной литографии, в частности от машин для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) производства ASML Holding NV, которые в настоящее время запрещены к продаже в Китай из-за экспортного контроля.

Четырехкратное нанесение рисунка подразумевает многократное травление линий на кремниевых пластинах для повышения плотности и производительности транзисторов. В патентной заявке Huawei описывается метод, использующий SAQP для производства более сложных полупроводников, обеспечивающий повышенную гибкость при разработке схем.

Кроме того, государственный разработчик оборудования для производства микросхем SiCarrier, сотрудничающий с Huawei, получил патент на использование SAQP в станках глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV). Такой подход позволяет достичь определенных технических показателей, характерных для 5-нанометровых чипов, и потенциально снизить производственные затраты, не прибегая к использованию EUV-машин.

Несмотря на то, что технология четырехсторонней печати может облегчить производство чипов по нормам 5 нм, в долгосрочной перспективе необходимость в EUV-машинах сохраняется. Тем не менее, эти инновационные методы могут снять некоторые технические барьеры, как утверждает Дэн Хатчерсон из TechInsights.

Несмотря на преимущества, если Huawei и ее партнеры прибегнут к альтернативным методам производства, стоимость одного чипа может превысить отраслевые стандарты. В настоящее время ведущие чипмейкеры используют EUV-машины для достижения максимальной производительности и минимизации затрат на чип.

Хотя самые передовые чипы, находящиеся в коммерческом производстве, используют 3-нм технологию, возможности Китая в настоящее время находятся на уровне 7-нм, отставая от мировых лидеров на два поколения. Переход на 5-нм технологию позволит сократить этот разрыв до одного поколения.

В ответ на ужесточение контроля за доступом к полупроводникам китайские компании, включая Huawei, вкладывают значительные средства в развитие отечественных мощностей по производству чипов. Недавний выпуск смартфона Huawei на базе передового 7-нм процессора свидетельствует о прогрессе, достигнутом вопреки усилиям США, направленным на его предотвращение.

В свете этих событий администрация Байдена ищет дополнительные меры для сдерживания технологического прогресса Китая. В числе мер - привлечение союзников и рассмотрение возможности введения дополнительных ограничений на деятельность китайских фирм по производству микросхем, связанных с Huawei, таких как SiCarrier.

Китайские производители оборудования для производства микросхем изучают альтернативы EUV-машинам, включая технологию множественного шаблонирования, дополненную системами травления. Эта стратегия направлена на производство 7-нм или более совершенных чипов, компенсируя недоступность EUV-машин.

Китайское правительство оказывает полную поддержку отечественным поставщикам оборудования для производства микросхем, о чем свидетельствует недавний визит премьера Ли Цяня в компанию Naura Technology. Такая поддержка свидетельствует о стремлении Китая развивать свою полупроводниковую промышленность, несмотря на внешние ограничения.